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鍍膜工藝技術(shù)分類和理論
鍍膜工藝技術(shù)分為真空蒸發(fā)鍍膜、電阻式蒸發(fā)鍍膜、電子束蒸發(fā)鍍膜等。
真空蒸發(fā)鍍膜是把待鍍膜的基片或工件置于高真空室內(nèi)，通過加熱使成膜材料氣化（或升華）而淀積到基片或工件表面上，從而形成一層薄膜的工藝過程。
真空鍍膜技術(shù)入門概念
真空鍍膜技術(shù)是一種在真空中制備薄膜材料的技術(shù)，它是材料科學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)和工程技術(shù)的交叉領(lǐng)域。以下是對真空鍍膜技術(shù)的一些基本概念的介紹：
HIPiMS技術(shù)高能磁控電源輸出線有什么注意事項(xiàng)？
一、電源輸出線離腔體盡量近，電源線盡量短為了保證脈沖電流波形引入到真空腔體時(shí)波形不畸變，且衰減小。期望在系統(tǒng)中，脈沖電鍍電源與真空腔體的距離2-3m為佳，長線易對脈沖電流波形的上升、下降沿產(chǎn)生較大的影響，真空腔體打火時(shí)，滅弧效果有影響。二、正負(fù)極導(dǎo)線使用同軸線纜或者雙絞屏蔽脈沖電源的輸出銜接，導(dǎo)線間的電感效應(yīng)越小越好。因而陰、陽極導(dǎo)線最好的辦法就是同軸無感線纜。
點(diǎn)擊關(guān)注，了解最前沿的真空應(yīng)用技術(shù)，跟隨新鉑科技走向未來！
在展示區(qū)展出了新鉑等離子體鍍膜工藝成品與電源設(shè)備，讓參展的嘉賓與展商皆感嘆新鉑科技在真空應(yīng)用領(lǐng)域技術(shù)實(shí)力！
耗散功率竟然能影響銅濺射等離子體的行為！
本文研究了在銅濺射等離子體中耗散功率對其影響的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。通過光發(fā)射光譜技術(shù)進(jìn)行測量，探討了耗散功率對銅濺射等離子體的物理特性和行為的影響。
通過實(shí)驗(yàn)結(jié)果發(fā)現(xiàn)，耗散功率的增加導(dǎo)致銅濺射等離子體中的電子溫度和密度的增加。此外，還觀察到了濺射過程中的輻射特性和粒子輸運(yùn)行為的變化。
管道結(jié)垢難題有解了！DLC薄膜助力石油行業(yè)發(fā)展！
在石油行業(yè)，人們正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以將原油的生產(chǎn)效率提高10%~15%。然而，隨著石油產(chǎn)量的增加，也面臨著更多的挑戰(zhàn)，管道腐蝕是其中之一。對于二氧化碳增強(qiáng)采收率（EOR）技術(shù)，生產(chǎn)油水混合物因高壓與二氧化碳過飽和而酸化，
一文讀懂濺射沉積技術(shù)
濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶材表面，通過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術(shù)。濺射鍍膜技術(shù)具有可實(shí)現(xiàn)大面積快速沉積，薄膜與基體結(jié)合力好，濺射密度高、針孔少，膜層可控性和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)，而且任何物質(zhì)都可以進(jìn)行濺射，因而近年來發(fā)展迅速，應(yīng)用廣泛。
真空鍍膜和電鍍的區(qū)別
真空鍍膜和電鍍都是常見的表面處理技術(shù)，用于改善物體外觀和性能。它們有一些共同點(diǎn)，但也存在著一些明顯的區(qū)別。下面我將詳細(xì)介紹這兩種技術(shù)的區(qū)別。