18922924269
語言切換 
中文
什么是真空鍍膜，它有什么作用
真空鍍膜技術(shù)是一種在真空條件下，利用物理或化學(xué)方法將材料蒸發(fā)或離子化后沉積于基材表面形成薄膜的過程。這種方法廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、包裝、裝飾等行業(yè)，具有許多優(yōu)點，如薄膜均勻性好、附著力強、厚度可控等。
HiPIMS電源的設(shè)計基礎(chǔ)及研究進展
HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種物理 氣相沉積（Physical Vapor Deposition, PVD）技術(shù)，它通過高頻脈沖放電在磁控濺射靶材表面產(chǎn)生強烈的等離子體，從而實現(xiàn)的材料沉積。HiPIMS技術(shù)的關(guān)鍵在于其電源設(shè)計，因為電源性能直接影響到等離子體密度、薄膜質(zhì)量和沉積速率等重要參數(shù)。
What are the advantages of PECVD protection technology
PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) is a technique for depositing thin films, widely used in semiconductor manufacturing, solar panel production, display manufacturing, and other fields. Compared with traditional CVD (Chemical Vapor Deposition) technology, PECVD has multiple advantages, especially in terms of protection, as follows:
PECVD防護技術(shù)有哪些優(yōu)勢？
PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，等離子體增強化學(xué)氣相沉積）是一種用于沉積薄膜的技術(shù)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、太陽能電池板生產(chǎn)、顯示器制造等領(lǐng)域。PECVD相比傳統(tǒng)CVD（Chemical Vapor Deposition，化學(xué)氣相沉積）技術(shù)具有多項優(yōu)勢，特別是在防護性方面，具體如下：
HiPIMS放電制備純金屬薄膜的優(yōu)勢
HiPIMS（High-Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脈沖磁控濺射）它在制備純金屬薄膜方面展現(xiàn)出了顯著的優(yōu)勢。下面列舉了一些主要的優(yōu)點：
HiPIMS電源可以沉積氧化物嗎
高功率脈沖磁控濺射（HiPIMS, High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種薄膜沉積技術(shù)，其特點是使用高功率脈沖對靶材進行激發(fā)，以提高濺射過程的離子化程度和沉積速率。
HIPIMS技術(shù)在金屬雙極板涂層中的應(yīng)用
HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脈沖磁控濺射）物理 氣相沉積（PVD）技術(shù)，它通過使用高峰值功率和低占空比的脈沖電源來實現(xiàn)材料的濺射。