真空鍍膜技術入門概念

　　真空鍍膜技術是一種在真空中制備薄膜材料的技術，它是材料科學、物理學、化學和工程技術的交叉領域。以下是對真空鍍膜技術的一些基本概念的介紹：

　　真空：在真空狀態(tài)下，沒有物質可以存在于真空中，因此真空中沒有氣體分子。

　　真空泵：真空泵是一種用于抽取氣體分子并使真空系統(tǒng)保持低壓力的設備。

　　蒸發(fā)鍍膜：蒸發(fā)鍍膜是將固體材料加熱到足夠高的溫度，使其蒸發(fā)并在基材上形成固態(tài)薄膜的過程。

　　濺射鍍膜：濺射鍍膜是使用高能離子或電子束轟擊靶材，使靶材上的原子或分子濺射出來并在基材上形成固態(tài)薄膜的過程。

　　化學氣相沉積（CVD）：CVD是一種在真空中通過化學反應在基材上形成固態(tài)薄膜的過程。

　　物理氣相沉積（PVD）：PVD是一種在真空中通過物理過程將靶材上的原子或分子轉移到基材上形成固態(tài)薄膜的過程。

　　薄膜：薄膜是指在基材上制備的一層厚度在納米到微米范圍內的材料。

　　基材：基材是指被鍍膜的物體，可以是金屬、陶瓷、玻璃等。

　　鍍膜劑：鍍膜劑是指用于鍍膜的材料，可以是金屬、陶瓷、玻璃等。

　　鍍膜機：鍍膜機是一種用于在基材上制備薄膜的設備，它通常由真空泵、加熱系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成。

　　真空鍍膜技術廣泛應用于各種領域，如光學、電子學、生物學、醫(yī)學等。