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2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇在莞舉行
12月14日，“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇”在松山湖材料實驗室舉辦。此次論壇由松山湖材料實驗室、材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國重點實驗室聯(lián)合舉辦，由高能脈沖PVD電源的領(lǐng)軍企業(yè)新鉑科技東莞有限公司提供支持。
250多名高能脈沖PVD專家齊聚東莞，共探技術(shù)產(chǎn)業(yè)融合路徑
12月14日，來自高校、中國科學(xué)院、企業(yè)的250多名代表齊聚東莞“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”，共同研討高能脈沖PVD（真空鍍膜）領(lǐng)域的研究成果和未來發(fā)展趨勢。論壇由松山湖材料實驗室、材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國重點實驗室、新鉑科技（東莞）有限公司聯(lián)合舉辦。
2024大灣區(qū)高能脈沖 PVD 高峰論壇成功舉辦，引領(lǐng)行業(yè)前沿發(fā)展
2024年12月14日，備受矚目的高能脈沖PVD高峰論壇在東莞松山湖材料實驗室盛大召開。
本次論壇匯聚了北京大學(xué)、清華大學(xué)、浙江大學(xué)、中科院固體所、華南理工大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、澳門大學(xué)、香港城市大學(xué)、季華實驗室以及華為、華星光電等250多位國內(nèi)該領(lǐng)域的專家、學(xué)者以及企業(yè)代表，共同探討高能脈沖PVD技術(shù)的進展與未來趨勢，為行業(yè)的發(fā)展注入了新的活力與智慧。
HiPIMS磁控濺射：材料制備的新趨勢
HiPIMS磁控濺射技術(shù)具有獨特的優(yōu)勢。與傳統(tǒng)磁控濺射相比，它能在高功率脈沖模式下運行，產(chǎn)生高密度的等離子體。這使得濺射出來的原子或離子具有更高的能量和活性，在材料沉積過程中，可以更好地控制薄膜的微觀結(jié)構(gòu)
真空鍍膜技術(shù)中，薄膜厚度的測量和控制是如何實現(xiàn)的？
這是一種常用的測量方法。其原理是基于光的干涉現(xiàn)象。當(dāng)一束光照射到薄膜表面時，部分光被反射，部分光透過薄膜在基底和薄膜的界面再次反射，這兩束反射光會發(fā)生干涉。通過檢測干涉條紋的變化來確定薄膜的厚度。
如何控制和優(yōu)化真空鍍膜參數(shù)以獲得較佳的效果
蒸發(fā)源溫度是關(guān)鍵參數(shù)。對于不同的鍍膜材料，有其特定的蒸發(fā)溫度范圍。如蒸發(fā)金屬鋁，溫度一般在1200-1400℃。通過溫度傳感器和反饋控制系統(tǒng)，如熱電偶結(jié)合PID控制器，能控制溫度。溫度過高可能導(dǎo)致材料過度蒸發(fā)，