2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇在莞舉行

12月14日，“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇”在松山湖材料實驗室舉辦。此次論壇由松山湖材料實驗室、材料結構精密焊接與連接全國重點實驗室聯(lián)合舉辦，由高能脈沖PVD電源的領軍企業(yè)新鉑科技東莞有限公司提供支持。

論壇得到了廣東省真空學會、深圳市真空技術行業(yè)協(xié)會、深圳市真空學會的大力支持，匯集了松山湖材料實驗室、華南理工大學、北京大學深圳研究生院、季華實驗室、哈爾濱工業(yè)大學（深圳）等單位的近20名專家學者上臺分享。會議聚焦“高能脈沖磁控”“脈沖弧”等高能脈沖PVD的新電源、新結構、新性能，進而賦能半導體、醫(yī)療器械、光學儀器、汽車、航空航天、電子信息等多個領域，吸引了北京大學、浙江大學、中國科學院固體所、中國科學院金屬所、中國科學院蘭州化學物理研究所、中國散裂中子源、華為公司、OPPO、華星光電、中國航發(fā)哈爾濱東安發(fā)動機有限公司等近百家企事業(yè)單位250多名代表參會。

作為松山湖材料實驗室等離子團隊的帶頭人，哈爾濱工業(yè)大學田修波教授召集組織了此次論壇。開幕式上，松山湖材料實驗室黨委副書記/主任助理王玉文、哈工大材料結構焊接與連接全國重點實驗室副主任亓鈞雷、廣東真空學會理事長劉彭義等分別致歡迎辭。基于PVD產業(yè)的技術升級，他們呼吁PVD行業(yè)要不斷創(chuàng)新，在組件制造、工藝和裝備等方面加大研發(fā)和突破，發(fā)揮大灣區(qū)PVD產學研生態(tài)協(xié)同效應，推進PVD相關行業(yè)發(fā)展。

田修波教授指出，高能脈沖PVD在一定程度上代表著PVD核心技術的未來，基于高能脈沖放電誘導的高密度等離子體有助于膜層結構的精密設計，尤其是復合波形智能控制的脈沖電源，可被稱為“膜層的魔術師”，甚至在原子尺度上進行膜層構建。這將大大提高膜層的結合力、致密性以及綜合性能，但是高能脈沖電源與傳統(tǒng)的電源相比難以控制，給使用者帶來很多困擾。

此次論壇不僅對高能脈沖PVD技術的未來走向進行研討，更是為與會者提供的薄膜底層設計以及等離子體控制方法的深度理解。此外，論壇還強調產研融合、生態(tài)發(fā)展，不少專家紛紛對PVD的創(chuàng)新技術表達了積極看法，探討了如何更好地解決PVD行業(yè)的問題，探索可能的合作共贏的生態(tài)模式，希望協(xié)力推動PVD相關產業(yè)的技術升級，進而賦能大灣區(qū)經濟的更快發(fā)展。

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