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鍍膜電源是什么

鍍膜電源是一種用于鍍膜過程中的電力供應系統(tǒng)。它為鍍膜工藝中的電解槽提供所需的電能,使金屬離子在電解過程中沉積到基材上,形成一層薄膜。

管道結垢難題有解了!DLC薄膜助力石油行業(yè)發(fā)展!


在石油行業(yè),人們正在努力提高原油回收效率。例如,注入二氧化碳可以將原油的生產效率提高10%~15%。然而,隨著石油產量的增加,也面臨著更多的挑戰(zhàn),管道腐蝕是其中之一。對于二氧化碳增強采收率(EOR)技術,生產油水混合物因高壓與二氧化碳過飽和而酸化,

高引燃脈沖新HiPIMS模式下薄膜摩擦系數可降低到0.25

多層薄膜能顯著改善復雜環(huán)境下部件的性能和壽命,為獲得性能良好的膜層,研發(fā)團隊提出了一種高引燃脈沖新HiPIMS放電技術。增加引燃脈沖的個數,強化了膜層的結合力,硬度以及摩擦磨損的性能。

新HiPIMS放電模式制備薄膜表面粗糙度僅為4.123nm

為獲得HiPIMS的高離化率-高沉積速率技術特征,我們在研究中提出一種新型的HiPIMS放電模式,即電-磁場協(xié)同增強HiPIMS技術,該技術以外置電場和磁場雙場協(xié)同增強常規(guī)HiPIMS放電,增加濺射粒子離化率,改善薄膜的的沉積速率,制備的膜層性能優(yōu)異。

脈沖磁控濺射的工作原理和工作方式

脈沖磁控濺射是采用矩形波電壓的脈沖電源代替?zhèn)鹘y(tǒng)直流電源進行磁控濺射沉積。脈沖磁控濺射技術可以有效的抑制電弧產生進而消除由此產生的薄膜缺陷,同時可以提高濺射沉積速率,降低沉積溫度等一系列顯著優(yōu)點。

濺射鍍膜的原理

自1852年,格洛夫發(fā)現陰極濺射現象,對于濺射技術的運用便逐步發(fā)展起來,從上世紀80年代至今,磁控濺射技術在表面工程領域占據舉足輕重的地位。磁控濺射技術可制備超硬膜、耐腐蝕摩擦薄膜、超導薄膜、磁性薄膜、光學薄膜,以及各種具有特殊功能的薄膜,是一種十分有效的薄膜沉積方法。

真空蒸鍍法與濺射鍍膜技術介紹

真空蒸鍍法與濺射鍍膜技術不同區(qū)別的介紹
一、真空蒸鍍法
真空蒸鍍是將裝有基片的真空室抽成真空,然后加熱被蒸發(fā)的鍍料,使其原子或分子從表面氣化逸出,形成蒸氣流,入射到基片表面,凝結形成固體薄膜的技術.

真空鍍膜工藝流程

真空鍍膜是一種常見的表面處理工藝,常用于制造光學鏡片、太陽能電池板、LED等產品。其主要流程包括以下幾個步驟:

1. 基材清洗:將待處理的基材表面進行清洗,以去除表面的油污、灰塵等雜質,確保表面干凈。